为什么说安集科技是CMP小巨人？

匿名用户2023.08.25回答提问者采纳化学机械抛光（CMP）是化学腐蚀与机械磨削相结合的一种抛光方法，用于精密加工领域，是目前唯一能够实现晶片全局平坦化的实用技术和核心技术。而化学机械抛光液由纳米级研磨颗粒和高纯化学品组成，是化学机械抛光工艺过程中使用的主要化学材料。安集科技的主营业务为关键半导体材料的研发和产业化，目前产品包括不同系列的化学机械抛光液和功能性湿电子化学品，主要应用于集成电路制造和先进封装领域。自成立之初，安集科技就致力于高端半导体材料领域，在还是技术空白的国内市场率先选择技术难度较高、研发难度较大的化学机械抛光液和功能性湿电子化学品，并持续专注投入，成功打破了国外厂商的垄断，成为众多半导体行业领先客户的主流供应商。